聲光調(diào)制器的工作原理及作光開(kāi)關(guān)使用時(shí)的實(shí)驗(yàn)效果
本文首先介紹了激光器的起源、種類(lèi)和應(yīng)用,進(jìn)而介紹了聲光調(diào)制器(Acousto-Optic Modul....

Gvim工具在數(shù)字前端開(kāi)發(fā)中扮演的角色和重要的意義
Gvim是vim的圖形前端,是跨平臺(tái)的編輯器。本文介紹了Gvim工具在數(shù)字前端開(kāi)發(fā)中扮演的角色和重要....
半導(dǎo)體新發(fā)現(xiàn):拓?fù)浼ぷ用芏炔孔游飸B(tài)
激子是由庫(kù)侖相互作用束縛的電子-空穴對(duì)組成的準(zhǔn)粒子,在絕緣體和半導(dǎo)體中都很常見(jiàn)。激子絕緣相首先是諾貝....

集成電路設(shè)計(jì)中靜態(tài)時(shí)序分析介紹
本文介紹了集成電路設(shè)計(jì)中靜態(tài)時(shí)序分析(Static Timing Analysis,STA)的基本原....
芯片失效分析的方法和流程
? 本文介紹了芯片失效分析的方法和流程,舉例了典型失效案例流程,總結(jié)了芯片失效分析關(guān)鍵技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)....
汽車(chē)排氣管內(nèi)置的傳感器種類(lèi)解析
燃油車(chē)汽車(chē)尾氣中所含的一氧化碳、二氧化碳以及碳?xì)浠衔锏纫殉蔀榇髿馕廴镜囊粋€(gè)重要來(lái)源。那么如何檢測(cè)尾....

EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者
? EUV光刻有多強(qiáng)?目前來(lái)看,沒(méi)有EUV光刻,業(yè)界就無(wú)法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)也是....

鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管制造工藝流程
FinFET(鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管)從平面晶體管到FinFET的演變是一種先進(jìn)的晶體管架構(gòu),旨在提高集成....

機(jī)械硬盤(pán)的未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)探析
隨著近年來(lái)固態(tài)硬盤(pán)的技術(shù)成熟和成本的下探,固態(tài)硬盤(pán)(SSD)儼然有要取代傳統(tǒng)機(jī)械硬盤(pán)(HDD)的趨勢(shì)....
MEMS工藝制造中的首要挑戰(zhàn):揭秘頭號(hào)大敵
本文深入解析兩類(lèi)應(yīng)力的形成機(jī)制,揭秘從工藝優(yōu)化(如LPCVD參數(shù)調(diào)控)到材料設(shè)計(jì)的全鏈條應(yīng)對(duì)策略,并....

光學(xué)PCB基波導(dǎo)嵌入式系統(tǒng)解析
本文引入基于光學(xué)PCB的波導(dǎo)嵌入式系統(tǒng)(WES),用于AI/HPC數(shù)據(jù)中心,以克服CPO集成挑戰(zhàn)。W....

一文速覽:人工智能(AI)算法與GPU運(yùn)行原理詳解
本文介紹人工智能的發(fā)展歷程、CPU與GPU在AI中的應(yīng)用、CUDA架構(gòu)及并行計(jì)算優(yōu)化,以及未來(lái)趨勢(shì)。....

存儲(chǔ)器工藝概覽:常見(jiàn)類(lèi)型介紹
? 動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(DRAM)是現(xiàn)代計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中不可或缺的核心組件,廣泛應(yīng)用于個(gè)人計(jì)算機(jī)、服務(wù)器....

納米壓印技術(shù):開(kāi)創(chuàng)下一代光刻的新篇章
光刻技術(shù)對(duì)芯片制造至關(guān)重要,但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制,摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸,下一代光刻(NG....

折疊屏手機(jī)實(shí)現(xiàn)隨意彎曲的技術(shù)揭秘
本文介紹了折疊屏手機(jī)所用原料OLED以及其實(shí)現(xiàn)隨意折疊的機(jī)理。 ? 折疊屏手機(jī)作為近年來(lái)智能手機(jī)領(lǐng)域....

數(shù)字電路設(shè)計(jì)中:前端與后端的差異解析
本文介紹了數(shù)字電路設(shè)計(jì)中“前端”和“后端”的區(qū)別。 數(shù)字電路設(shè)計(jì)中“前端”和“后端”整個(gè)過(guò)程可類(lèi)比蓋....
什么是晶圓制程的CPK
本文介紹了什么是晶圓制程的CPK。 CPK(Process Capability Index)?是制....