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中科院半導(dǎo)體所

文章:1350 被閱讀:393.9w 粉絲數(shù):254 關(guān)注數(shù):0 點(diǎn)贊數(shù):41

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一文搞懂先進(jìn)存儲(chǔ)技術(shù)

高性能計(jì)算(High Performance Computing, HPC)以超高的計(jì)算性能廣泛應(yīng)用....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-26 17:42 ?1082次閱讀
一文搞懂先進(jìn)存儲(chǔ)技術(shù)

邏輯集成電路制造中良率提升與缺陷查找

本文介紹了邏輯集成電路制造中有關(guān)良率提升以及對(duì)各種失效的分析。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-26 17:36 ?986次閱讀
邏輯集成電路制造中良率提升與缺陷查找

Cu-Cu混合鍵合的原理是什么

本文介紹了Cu-Cu混合鍵合主要用在哪方面以及原理是什么。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-26 17:35 ?723次閱讀
Cu-Cu混合鍵合的原理是什么

硅光通信技術(shù)的原理和基本結(jié)構(gòu)

本文介紹了硅光芯片的發(fā)展歷史,詳細(xì)介紹了硅光通信技術(shù)的原理和幾個(gè)基本結(jié)構(gòu)單元。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-26 17:31 ?951次閱讀
硅光通信技術(shù)的原理和基本結(jié)構(gòu)

芯片制造中薄膜厚度量測(cè)的重要性

本文論述了芯片制造中薄膜厚度量測(cè)的重要性,介紹了量測(cè)納米級(jí)薄膜的原理,并介紹了如何在制造過(guò)程中融入薄....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-26 17:30 ?1251次閱讀
芯片制造中薄膜厚度量測(cè)的重要性

聲光調(diào)制器的工作原理及作光開(kāi)關(guān)使用時(shí)的實(shí)驗(yàn)效果

本文首先介紹了激光器的起源、種類(lèi)和應(yīng)用,進(jìn)而介紹了聲光調(diào)制器(Acousto-Optic Modul....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-20 10:28 ?1240次閱讀
聲光調(diào)制器的工作原理及作光開(kāi)關(guān)使用時(shí)的實(shí)驗(yàn)效果

Gvim工具在數(shù)字前端開(kāi)發(fā)中扮演的角色和重要的意義

Gvim是vim的圖形前端,是跨平臺(tái)的編輯器。本文介紹了Gvim工具在數(shù)字前端開(kāi)發(fā)中扮演的角色和重要....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-20 10:21 ?415次閱讀

集成電路制造工藝中的偽柵去除技術(shù)介紹

本文介紹了集成電路制造工藝中的偽柵去除技術(shù),分別討論了高介電常數(shù)柵極工藝、先柵極工藝和后柵極工藝對(duì)比....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-20 10:16 ?683次閱讀
集成電路制造工藝中的偽柵去除技術(shù)介紹

半導(dǎo)體新發(fā)現(xiàn):拓?fù)浼ぷ用芏炔孔游飸B(tài)

激子是由庫(kù)侖相互作用束縛的電子-空穴對(duì)組成的準(zhǔn)粒子,在絕緣體和半導(dǎo)體中都很常見(jiàn)。激子絕緣相首先是諾貝....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-19 09:52 ?439次閱讀
半導(dǎo)體新發(fā)現(xiàn):拓?fù)浼ぷ用芏炔孔游飸B(tài)

集成電路設(shè)計(jì)中靜態(tài)時(shí)序分析介紹

本文介紹了集成電路設(shè)計(jì)中靜態(tài)時(shí)序分析(Static Timing Analysis,STA)的基本原....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-19 09:46 ?625次閱讀

芯片失效分析的方法和流程

? 本文介紹了芯片失效分析的方法和流程,舉例了典型失效案例流程,總結(jié)了芯片失效分析關(guān)鍵技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-19 09:44 ?1209次閱讀

汽車(chē)排氣管內(nèi)置的傳感器種類(lèi)解析

燃油車(chē)汽車(chē)尾氣中所含的一氧化碳、二氧化碳以及碳?xì)浠衔锏纫殉蔀榇髿馕廴镜囊粋€(gè)重要來(lái)源。那么如何檢測(cè)尾....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-18 10:20 ?12043次閱讀
汽車(chē)排氣管內(nèi)置的傳感器種類(lèi)解析

EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

? EUV光刻有多強(qiáng)?目前來(lái)看,沒(méi)有EUV光刻,業(yè)界就無(wú)法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)也是....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-18 09:31 ?1025次閱讀
EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

淺談Verilog和VHDL的區(qū)別

Verilog和VHDL是兩種廣泛使用的硬件描述語(yǔ)言(HDL),它們用于描述和模擬數(shù)字電路系統(tǒng)的行為....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-17 14:20 ?1583次閱讀
淺談Verilog和VHDL的區(qū)別

鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管制造工藝流程

FinFET(鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管)從平面晶體管到FinFET的演變是一種先進(jìn)的晶體管架構(gòu),旨在提高集成....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-17 14:15 ?1177次閱讀
鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管制造工藝流程

什么是光刻機(jī)的套刻精度

在芯片制造的復(fù)雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻O(píng)verl....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-17 14:09 ?2296次閱讀
什么是光刻機(jī)的套刻精度

機(jī)械硬盤(pán)的未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)探析

隨著近年來(lái)固態(tài)硬盤(pán)的技術(shù)成熟和成本的下探,固態(tài)硬盤(pán)(SSD)儼然有要取代傳統(tǒng)機(jī)械硬盤(pán)(HDD)的趨勢(shì)....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-17 11:39 ?3434次閱讀

MEMS工藝制造中的首要挑戰(zhàn):揭秘頭號(hào)大敵

本文深入解析兩類(lèi)應(yīng)力的形成機(jī)制,揭秘從工藝優(yōu)化(如LPCVD參數(shù)調(diào)控)到材料設(shè)計(jì)的全鏈條應(yīng)對(duì)策略,并....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-17 10:27 ?589次閱讀
MEMS工藝制造中的首要挑戰(zhàn):揭秘頭號(hào)大敵

接觸孔工藝簡(jiǎn)介

本文主要簡(jiǎn)單介紹探討接觸孔工藝制造流程。以55nm接觸控工藝為切入點(diǎn)進(jìn)行簡(jiǎn)單介紹。 ? 在集成電路制....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-17 09:43 ?872次閱讀
接觸孔工藝簡(jiǎn)介

三種太赫茲波的產(chǎn)生方式

本文簡(jiǎn)單介紹了三種太赫茲波的產(chǎn)生方式。 太赫茲波(THz)是一種電磁波,在電磁波譜上位于紅外與微波之....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-17 09:09 ?1846次閱讀
三種太赫茲波的產(chǎn)生方式

光學(xué)PCB基波導(dǎo)嵌入式系統(tǒng)解析

本文引入基于光學(xué)PCB的波導(dǎo)嵌入式系統(tǒng)(WES),用于AI/HPC數(shù)據(jù)中心,以克服CPO集成挑戰(zhàn)。W....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-14 10:48 ?671次閱讀
光學(xué)PCB基波導(dǎo)嵌入式系統(tǒng)解析

一文速覽:人工智能(AI)算法與GPU運(yùn)行原理詳解

本文介紹人工智能的發(fā)展歷程、CPU與GPU在AI中的應(yīng)用、CUDA架構(gòu)及并行計(jì)算優(yōu)化,以及未來(lái)趨勢(shì)。....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-14 10:28 ?758次閱讀
一文速覽:人工智能(AI)算法與GPU運(yùn)行原理詳解

存儲(chǔ)器工藝概覽:常見(jiàn)類(lèi)型介紹

? 動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(DRAM)是現(xiàn)代計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中不可或缺的核心組件,廣泛應(yīng)用于個(gè)人計(jì)算機(jī)、服務(wù)器....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-14 10:24 ?683次閱讀
存儲(chǔ)器工藝概覽:常見(jiàn)類(lèi)型介紹

光阻的基礎(chǔ)知識(shí)

本文將系統(tǒng)介紹光阻的組成與作用、剝離的關(guān)鍵工藝及化學(xué)機(jī)理,并探討不同等離子體處理方法在光阻去除中的應(yīng)....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-13 10:30 ?1689次閱讀
光阻的基礎(chǔ)知識(shí)

納米壓印技術(shù):開(kāi)創(chuàng)下一代光刻的新篇章

光刻技術(shù)對(duì)芯片制造至關(guān)重要,但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制,摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸,下一代光刻(NG....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-13 10:03 ?2028次閱讀
納米壓印技術(shù):開(kāi)創(chuàng)下一代光刻的新篇章

折疊屏手機(jī)實(shí)現(xiàn)隨意彎曲的技術(shù)揭秘

本文介紹了折疊屏手機(jī)所用原料OLED以及其實(shí)現(xiàn)隨意折疊的機(jī)理。 ? 折疊屏手機(jī)作為近年來(lái)智能手機(jī)領(lǐng)域....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-13 10:01 ?868次閱讀
折疊屏手機(jī)實(shí)現(xiàn)隨意彎曲的技術(shù)揭秘

數(shù)字電路設(shè)計(jì)中:前端與后端的差異解析

本文介紹了數(shù)字電路設(shè)計(jì)中“前端”和“后端”的區(qū)別。 數(shù)字電路設(shè)計(jì)中“前端”和“后端”整個(gè)過(guò)程可類(lèi)比蓋....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-12 10:09 ?565次閱讀

背金工藝的工藝流程

本文介紹了背金工藝的工藝流程。 本文將解析一下背金工藝的具體的工藝流程及每步的工藝原理。 背金工藝的....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-12 09:33 ?881次閱讀
背金工藝的工藝流程

集成電路工藝中的金屬介紹

本文介紹了集成電路工藝中的金屬。 集成電路工藝中的金屬 概述 在芯片制造領(lǐng)域,金屬化這一關(guān)鍵環(huán)節(jié)指的....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-12 09:31 ?1312次閱讀
集成電路工藝中的金屬介紹

什么是晶圓制程的CPK

本文介紹了什么是晶圓制程的CPK。 CPK(Process Capability Index)?是制....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-11 09:49 ?1154次閱讀